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国家发改委国际司副司长高健：助力美在华跨国企业更好融入新发展格局******

　　中新网北京11月2日电(中新财经记者李金磊石睿)“党的二十大报告充分释放了中国扩大对外开放的积极信号，给美在华企业继续在中国各地投资兴业树立了信心。”

　　国家发展改革委国际司副司长高健1日在接受中新网记者专访时作出上述表示。他强调，中国扩大高水平开放的决心不变。中国政府一如既往欢迎包括美国企业在内的各国企业来华发展、在华发展。

　　助力美在华跨国企业更好融入新发展格局

　　11月1日，以“聚焦二十大共谋新发展”为主题的国家发展改革委与美在华跨国企业高层圆桌会在北京举行。此次圆桌会由国家发改委国际司、中国新闻社主办，中国新闻网承办，中国美国商会、美中贸易全国委员会及60余家美在华企业高级代表参会。

　　“深入理解党的二十大精神，有助于美在华企业提振对中国市场的信心，对美资企业融入中国新发展格局、深度参与中国高质量发展起到积极促进作用。”高健说。

　　他表示，此次圆桌会延续了政企交流的重要平台与桥梁作用，充分展示出中国政府欢迎包括美国企业在内的世界各国企业更多参与中国对外开放、分享中国发展机遇的诚意与热情，帮助美在华企业了解中国政策方向、找准市场定位、抓住中国投资机遇，对于有关企业继续在华投资兴业、共享中国发展成果具有重要实践意义。

　　世行最新报告公布的数据显示，2013年至2021年，中国对世界经济增长的平均贡献率为38.6%，超过G7国家贡献率的总和。

　　“中国经济潜力足韧性大活力强，稳中向好、长期向好的基本面不会变。”高健说，党的二十大为中国迈上全面建设社会主义现代化国家新征程指明方向，14亿多人民正迈向共同富裕，这将为包括美国在内的世界各国提供更多市场和发展机遇。

11月1日下午，以“聚焦二十大共谋新发展”为主题的国家发展改革委与美在华跨国企业高层圆桌会在北京举行。

　　三个“不变”：中国扩大高水平开放的决心不变

　　在高健看来，本次圆桌会立意新、内容实，企业参与积极性超出预期，营造了良好的对话氛围，释放的信号可以概括为三个“不变”：一是中美企业界合作互利共赢的本质不变。二是中国扩大高水平开放的决心不变。三是美在华企业对于中国广阔市场的信心不变。

　　高健强调，开放是当代中国的鲜明标识。中国政府一如既往欢迎包括美国企业在内的各国企业来华发展、在华发展，并将竭力为企业提供更好的服务和平台，持续打造市场化、国际化、法治化的营商环境。

　　圆桌会聚焦美在华企业关切热点问题，就当前最新外资政策措施、碳达峰碳中和“1+N”政策体系等内容进行了系统介绍、答疑解惑，有助于在华美企坚定对中国市场的信心和预期，进一步拓展市场合作新空间、开辟深化中美经贸合作的新路径。

　　“此次圆桌会尽管通知时间很短，但美在华企业踊跃报名，60余家美重点在华企业代表第一时间积极反馈，参与热情极高，这也从侧面反映出美企对于中国市场的重视程度。我们深切体会到，未来包括美在华企业在内的外资企业将更加看好中国市场，更加积极融入中国新发展格局。”高健说。

11月1日，以“聚焦二十大共谋新发展”为主题的国家发展改革委与美在华跨国企业高层圆桌会在北京举行。中新网记者李骏摄

　　三点期待：希望美在华企业保持对中国市场的信心

　　根据海关数据，今年1至9月，中美贸易额达5803.97亿美元，同比增长6.9%；美对华投资保持稳定，对华投资额达18.6亿美元，同比增长1.3%。

　　对于参加这次圆桌会的美在华企业，高健提出了三点期待：一是准确领会党的二十大精神，加深对中国最新政策的理解。二是主动融入中国新发展格局，确保全球产业链供应链安全稳定。三是充分把握中国市场机遇，不断开辟合作新空间。

　　他表示，希望美在华企业通过参加这次圆桌会，更加深入全面理解二十大报告的最新精神，了解中国经济未来发展方向；更好利用鼓励、促进外商投资的政策举措，对中国市场的稳定性和确定性更加充满信心；更好把握中国市场机遇、投资机遇和增长机遇，共享中国发展红利。

　　他指出，包括美在华企业在内的世界各国企业融入中国新发展格局、参与中国经济高质量发展进程、继续在各地投资兴业长期耕耘，实际上也是参与和提升全球产业链供应链体系。这既符合企业自身利益，也是在为全球经济的稳定复苏作贡献。希望企业能找准定位，保持定力，满怀信心，通过参与中国经济发展，共同维护全球产业链供应链的稳定和安全。

　　“中国拥有全球最大的市场，能够为外资企业带来广阔的机遇和合作空间。”高健说，希望美在华企业保持对中国市场的信心，在“变局”中培育新的战略机遇，充分把握潜在投资机会，探索更多投资合作领域，支持和促进更多技术创新及其在华应用推广，为促进中美经济合作走深走实、中美关系更好向前发展贡献积极力量。(完)

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多光子非线性量子干涉首次实现为新型量子态制备等应用奠定基础******

　　科技日报合肥1月16日电 (记者吴长锋)记者16日从中国科学技术大学获悉，该校郭光灿院士团队任希锋研究组与国外同行合作，基于光量子集成芯片，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的干涉。相关成果日前发表在光学权威学术期刊《光学》上。

　　量子干涉是众多量子应用的基础，特别是近年来基于路径不可区分性产生的非线性干涉过程越来越引起人们的关注。尽管双光子非线性干涉过程已经实现了20多年，并且在许多新兴量子技术中得到应用，直到2017年，人们才在理论上将该现象扩展到多光子过程，但实验上由于需要极高的相位稳定性和路径重合性，一直未获得新进展。光量子集成芯片，以其极高的相位稳定性和可重构性逐渐发展成为展示新型量子应用、开发新型量子器件的理想平台，也为多光子非线性干涉研究提供了实现的可能性。

　　任希锋研究组长期致力于硅基光量子集成芯片开发及相关应用研究并取得系列重要进展。在前工作基础上，研究组通过进一步将多光子量子光源模块、滤波模块和延时模块等结构片上级联，在国际上首次展示了四光子非线性产生过程的相干相长、相消过程，其四光子干涉可见度为0.78。而双光子符合并未观测到随相位的明显变化，这同理论预期一致。整个实验在一个尺寸仅为3.8×0.8平方毫米的硅基集成光子芯片上完成。

　　这一成果成功地将两光子非线性干涉过程扩展到多光子过程，为新型量子态制备、远程量子计量以及新的非局域多光子干涉效应观测等应用奠定了基础。审稿人一致认为这是一个重要的研究工作，并给出了高度评价：该芯片设计精良，包含多种集成光学元件，如纠缠光子源、干涉仪、频率滤波器/组合器；这项工作推动了集成光子量子信息科学与技术研究领域的发展。

　　（文图：赵筱尘巫邓炎）

[责编：天天中]

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